馬斯克出席技術大會與政策呼籲

特斯拉與SpaceX創辦人馬斯克近日參與半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)的閉門技術大會，與執行長傅凱進行對話。市場焦點鎖定在馬斯克旗下超大型半導體工廠計畫Terafab。該合資事業近日宣布將在德州打造一座成本至少550億美元的晶片廠，規劃利用2奈米製程，每年生產1,000億至2,000億顆AI晶片，團隊並已接觸半導體供應鏈家登(3680)。

此外，ASML執行長傅凱近期針對歐洲市場發展提出呼籲，指出冗長的監管程序已限制企業擴張。重點營運與政策方向包含：

• 預計今年內將旗下最先進極紫外光(EUV)微影設備產能提升50%。
• 指出擴廠受限於歐洲法規，新廠設立需耗費4年時間。
• 呼籲歐盟減少監管干預，著重培養半導體供應鏈領導企業以降低晶片依賴。

ASML(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

艾司摩爾成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球半導體光刻系統的領導廠商。光刻技術歷來佔製造尖端晶片成本的重要部分，各大晶片製造商包含台積電、三星與英特爾皆需仰賴其下一代EUV光刻工具，藉此持續超越5奈米工藝節點的技術瓶頸。

近期股價變化

根據2026年6月8日交易數據，開盤價為1732.79，盤中最高來到1769.49，最低為1719.02。終場收盤價落在1749.04，單日上漲107.30，漲幅達6.54%。當日成交量為2,062,087，較前一交易日變動幅度為減少24.87%。

綜合評估，馬斯克的晶片自製計畫為半導體設備市場增添新動能，而ASML積極擴充EUV產能也反映市場對高階製程的強勁需求。後續投資人可密切留意歐洲監管法規調整進度，以及高階鏡片產量吃緊對先進製程設備出貨規模的潛在影響。

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